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產(chǎn)品分類 / PRODUCT

半導體晶圓紫外線(UV)臭氧清洗設備

更新時間:2024-09-23      瀏覽次數(shù):324

半導體晶圓紫外線(UV)臭氧清洗設備

半導體晶圓紫外線(UV)臭氧清洗設備
波長185納米、254納米
目的清潔/修改
行業(yè)半導體制造
待安裝設備半導體清洗設備

UV照射設備用于清洗半導體晶圓。紫外線照射會產(chǎn)生臭氧,去除晶圓表面的有機物。半導體晶圓紫外臭氧清洗設備可用于原型/開發(fā)和批量生產(chǎn)。原型機和開發(fā)機是半自動的,生產(chǎn)能力低,而量產(chǎn)機是自動化機。

UV照射設備采用185nm和254nm汞燈作為光源。當185nm紫外線被氧氣吸收時,產(chǎn)生臭氧(O3)并產(chǎn)生活性氧。

技術(shù)文件《審查半導體制造領域的紫外線照射設備以實現(xiàn)成本降低》


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  • 更換晶圓周邊曝光光源,成本降低30%以上

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    • 目的

      接觸

    • 行業(yè)

      半導體制造

    • 設備

      涂布機開發(fā)商

    • 波長

      365nm

    • 任務

      初始成本和運行成本降低



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