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步進(jìn)原理

更新時(shí)間:2024-11-16      瀏覽次數(shù):284

為了對(duì)大直徑晶圓和液晶進(jìn)行高速縮小投影曝光,步進(jìn)機(jī)使用短波長(zhǎng)的光源以獲得高分辨率,并將IC掩模圖案投影并曝光在光罩上后,移動(dòng)平臺(tái)曝光晶圓的過程涉及重復(fù)多次圖案曝光。步進(jìn)機(jī)的內(nèi)部結(jié)構(gòu)包括曝光光源、投影鏡頭、晶圓臺(tái)、晶圓裝載機(jī)等。

由于IC大規(guī)模集成的需求,已開始使用波長(zhǎng)較短的曝光光源。這是因?yàn)樾枰⌒突?,并且一般來說,用于曝光的光的波長(zhǎng)越短,分辨率越高。 20世紀(jì)90年代,365 nm的i線是主要焦點(diǎn),但此后波長(zhǎng)變得更短,例如Krf(波長(zhǎng)248 nm)和Arf(波長(zhǎng)193 nm)。

晶圓載物臺(tái)是為了更快、更高效地制造IC和其他半導(dǎo)體而高速移動(dòng)晶圓的載物臺(tái)。除了高速移動(dòng)之外,由于精細(xì)加工還需要高定位精度。晶圓裝載機(jī)負(fù)責(zé)傳送晶圓,例如從晶圓臺(tái)上取出晶圓并將晶圓放置在其上。

異物的粘附是IC制造中的一大敵人,并且需要高速地將精密的晶圓移入和移出。步進(jìn)機(jī)具有上述結(jié)構(gòu),一邊使晶圓步進(jìn)一邊進(jìn)行順序曝光。


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