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沉積膜原理

更新時(shí)間:2025-02-13      瀏覽次數(shù):209

蒸鍍膜是將某種物質(zhì)蒸鍍?cè)谒芰匣纳闲纬梢粚幽ぃū∧ぃ┑漠a(chǎn)品統(tǒng)稱。用于蒸發(fā)的物質(zhì)是金屬(例如鋁或二氧化硅)或氧化物。

通過將這些作為薄膜附著在薄膜表面,可以在不改變基材特性的情況下附加阻隔性、設(shè)計(jì)性等新功能。沉積方法有兩種:物理氣相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉積(CVD)。

PVD 是一種通過加熱或碰撞等物理反應(yīng)來創(chuàng)建薄膜的方法,包括真空沉積和濺射等技術(shù)。另一方面,CVD是一種利用氣態(tài)原料的化學(xué)反應(yīng)形成薄膜的方法,被稱為熱CVD或等離子CVD。常用的方法包括

薄膜基材為PE(聚乙烯)或PP(聚丙烯) 。)、PET(聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯)


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